申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司

发明(设计)人：张学智：

摘要　

本实用新型涉及一种掩膜工艺用喷涂装置，包括支架和通过安装架连接在所述支架上的喷嘴，所述喷嘴和支架之间连接有至少一个通过对喷嘴产生相应拉力或推力以补偿喷嘴自身形变使喷嘴保持平直度的调节架。所述调节架包括固定在所述支架上的连接角板和对喷嘴产生相应拉力或推力的调节杆，所述调节杆的一端与所述连接角板连接，另一端与所述喷嘴连接。本实用新型通过在支架与喷嘴间设置调节架，减小喷嘴形变并对已产生的形变施加外力进行补偿，从而可使喷嘴本身平直性持续控制在所需技术范围内，延长了喷嘴的使用寿命，降低了生产成本，提高生产品质。